利用雷射繞射法製備具有特定圖譜光閘晶體之研究與分析

Abstract

光閘晶體(Photonic BandGap Crystal)是一種晶體材料在空間中具有介電性週期變化的特殊結構，若在結構內加入特定圖譜(或稱缺陷)後，其光電性質將更為豐富，有取代電路的可能，未來可成為有更大傳輸量、更低訊號損失率及安全性較佳之積體光路(Integrated Optical Circuit)。然而在製作特定缺陷結構的製程中，採用傳統成熟的光微影法(Photolithography)雖然可以輕易的在二維結構中加入不同型態的圖譜，但是卻很難應用到三維的狀況。本研究的目的在於利用膠體自組裝法(Colloidal Self-assembly)，搭配雷射繞射(Laser Diffraction)，來控制膠粒的沉降堆積行為，進而製作具有圖譜的光閘晶體。 首先，在實驗中除了使用聚苯乙烯及二氧化矽之外，另外合成單一粒徑、次微米球形發光氧化釔摻鋱(Y2O3:Tb3+)，且利用XRD、SEM、TEM、TGA、ICP-OES、以及PL等分析技術去分析合成顆粒的結構、組成、發光性質。結果顯示球形氧化釔摻鋱在合成過程中屬零級反應，受反應過程中所添加的尿素分解所控制；並且在受紫外光(UV)光激發下，可觀察到主峰波長546 nm的綠光放射光譜。 在本研究的第二個目標為比較顆粒在溶液中組合時各種作用力的相對影響。實驗利用一光學顯微鏡系統(OM)觀察錄影後，統計分析其在單一或是多重作用力影響下的行為。結果顯示，在無外加作用力下，次微米顆粒的行為主要是受到布朗運動所控制，而非重力；然而在有外加電場作用力下，布朗運動的影響幾乎可以被乎略。此外，另一作用力來自雷射光，在形成一高度聚焦後的光鉗(Optical Tweezer)後，使之與溶液中的顆粒作用。在OM的觀察下顯示，此光鉗一次可以鉗住很多顆粒，而且在雷射光透過一設計的圖譜後，溶液中的顆粒可以很明顯的受該繞射圖譜的影響，而排列成相同的樣式。