利用插入式水分電導度量測儀建立蝴蝶蘭栽培水苔肥培管理模式

Abstract

"臺灣蝴蝶蘭 (Phalaenopsis spp.) 栽培目前常以插入式水分電導度儀測量介質狀態，而依循之介質溶液電導度 (pore water electrical conductivity, ECp) 建議值，係由Pour- through法 (PT法) 建立。PT法測值為介質 VWC (volumetric water content, VWC, θ) 於容器容水量 (container capacity) 下測得；插入式量測儀則能在不同 VWC下進行測量。然而 ECp會因介質 VWC下降而上升，無法與 PT法之建議值對照。且臺灣業者常以水苔栽種蝴蝶蘭，其理化性質與土壤差異極大，使用插入式量測儀進行監測之可行性尚須確立。 本研究使用之 Delta- T WET sensor，探討水苔 VWC、ECp與總鹽類含量之關係。水苔 ECp值與 VWC之變化關係為三次曲線，當水苔 VWC逐漸下降時，ECp測值會逐漸上升，且變化關係不受試驗中不同肥料 EC值 (0至 1.6 dS∙m-1)、肥料配方、乾燥循環所影響。故研究以容水量時測得之 ECp值定義為 ECp (θ= container capacity) (ECp (θ= cc))，可表示水苔內鹽類含量相同時，受 VWC下降而上升之 ECp值，即可與 PT法測值對應。並使用 VWC- ECp- ECp (θ= cc)關係建立之迴歸模型，將不同 VWC下測得之 ECp轉換成可統一比較之 ECp (θ= cc)以利量測結果之判讀。 水苔 ECp (θ= cc)可以做為判定水苔肥料管理之標準，故施用不同 EC值追肥後調查水苔 ECp (θ= cc)上升幅度，提供業者施肥時建議。澆灌不同濃度追肥之後，水苔 ECp (θ= cc)隨施用肥料濃度線性上升，不受原本水苔內鹽類含量影響。依照 ECp (θ= cc)施用追肥後的上升變化，得出澆灌 1 dS∙m-1液肥並使水苔增加 0.01 m3∙m-3 VWC時，水苔 ECp (θ= cc)會增加 0.018 dS∙m-1。業者可於施肥前計算預計增加之 VWC與 ECp (θ= cc)，即可計算出肥料濃度建議值。 水苔在復水後，因為遲滯現象需等待平衡，且平衡期間測值不精準。故試驗目的為觀察要排除遲滯現象影響測值所需等待之平衡時間。當水苔復水後 VWC越低，平衡期間 ECp值的變化越大，且平衡後的 ECp值與初期乾燥過程的測值差距越大，提高復水程度則可減少 ECp值復水前後差異。遲滯現象對水苔 VWC變化影響皆小於 0.041 m3∙m-3，可以被忽略，而復水至 0.4 m3∙m-3以上，平衡 2至 3天後與平衡最後一天的 ECp測值誤差低於 0.1 dS∙m-1。考量監測時效，建議澆灌液肥 1至 3天後以 WET sensor監測水苔 ECp。 以上述結果建立之模型，計算建議施肥濃度，在蝴蝶蘭植株上進行四次施肥之澆灌，共經過 5個月的栽培過程，在修正 VWC於澆灌後的上升幅度後，即可使建議的施肥達到目標的水苔養分狀態 (ECp (θ= cc))。利用模型與 ECp (θ= cc)疊加公式計算施用的肥料 EC值，能達到目標水苔鹽類含量 ( ECp (θ= cc) 值 1.0 dS∙m-1)。顯示精準得知施肥後水苔 VWC上升幅度，便可利用 ECp (θ= cc)計算模型與 ECp (θ= cc)施肥後上升公式，計算施用的肥料 EC值，使栽培蝴蝶蘭時澆灌適當 EC值液肥，水苔鹽類含量達到目標區間。 綜合試驗結果，以 WET量測儀監測水苔可精準呈現 VWC與 ECp值變化關係，並以此建立 VWC- ECp- ECp (θ= cc)迴歸模型，能計算出水苔 ECp (θ= cc)值，協助業者參照 PT法肥培建議判斷水苔養分狀態。ECp (θ= cc)計算模型搭配 ECp (θ= cc)施肥後上升公式，可協助計算施肥的 EC值濃度以達到預計的水苔鹽類含量。澆灌後 1至 3天後檢測澆灌EC並修正施肥操作，有利於蝴蝶蘭栽培時精準控肥。"