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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2010 | 利用原子層沉積技術成長n型與p型氧化鋅薄膜及其光電特性研究 Characteristics of n-type and p-type ZnO Films Grown by Atomic Layer Deposition | Ying-Shen Kuo; 郭盈伸 | 材料科學與工程學研究所 |
2016 | 利用電漿增強型原子層沉積技術製作前瞻性高介電材料於金氧半電容元件以及鰭式場效電晶體之研究 High-K Dielectrics Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition and its Applications in MOS capacitors and FinFETs | Meng-Chen Tsai; 蔡孟辰 | 材料科學與工程學研究所 |
2017 | 使用電漿增強型原子層沉積技術成長高介電係數氧化層電容元件及負電容之研究 High-K Dielectrics and Ferroelectric Negative Capacitance Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition | I-Na Tsai; 蔡依娜 | 材料科學與工程學研究所 |
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系所
- 13 材料科學與工程學研究所
指導教授
關鍵字
- 9 原子層沉積技術
- 3 原子層沉積
- 2 atomic layer deposition (ald),zir...
- 2 原子層沉積技術,二氧化鋯
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- 13 true