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NTU Theses and Dissertations Repository
瀏覽 的方式: 作者 陳敏璋(Miin-Jang Chen)
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2006
一維奈米結構氮化銦光電特性研究
Electro-Optical Properties of Nano-structured Indium Nitride
Chia-Ju Yu; 余佳茹
材料科學與工程學研究所
2014
不同尺寸奈米金粒子的製備、光學特性與應用
Fabrication, Optical Characterization and Applications of Different Sized Gold Nanoparticles
Chia-Wei Lee; 李家瑋
材料科學與工程學研究所
2012
以原子層沉積技術所製作之氧化鋁薄膜性質及其對純銅保護性之研究
A study on the properties of ALD-deposited Al2O3 films and their protective capability for pure copper
Ming-Lun Chang; 張明倫
材料科學與工程學研究所
2016
使用原子層沉積技術成長高品質三族氮化物與氧化物應用於電子與光電元件之研究
High Quality III-nitride and III–oxide Prepared by Atomic Layer Deposition and its Applications in Electronic and Optical Devices
Huan-Yu Shih; 施奐宇
材料科學與工程學研究所
2018
使用原子層沉積與聚焦離子束技術應用於奈米微結構之製作與奈米電漿子之研究
Applications of Atomic Layer Deposition and Focused Ion Beam Techniques on Nanofabrication and Nanoplasmonics
Po-Shuan Yang; 楊博軒
材料科學與工程學研究所
2014
使用陽極氧化鋁基板探討表面電漿子增強型拉曼及螢光光譜
Plasmonic Enhancement of Raman Scattering and Photoluminescence on Anodic Aluminum Oxide Template
Yen-Hui Lee; 李彥輝
材料科學與工程學研究所
2017
使用電漿增強型原子層沉積技術成長高介電係數氧化層電容元件及負電容之研究
High-K Dielectrics and Ferroelectric Negative Capacitance Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
I-Na Tsai; 蔡依娜
材料科學與工程學研究所
2012
利用原子層沉積技術成長二氧化鈦及氧化鋁複合氧化層-應用於金氧半電容元件之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Titanium Aluminum Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
Keng-Han Lin; 林耕漢
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術成長光學薄膜於溝槽式矽基板之研究
Study of Optical Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition on Silicon Trench
Chi-Yuan Sun; 孫啟元
材料科學與工程學研究所
2006
利用原子層沉積技術成長氧化鋁-應用於矽發光二極體之研究
Study of Silicon Light-Emitting Diodes with Al2O3 thin films grown by Atomic Layer Deposition
Ying-Tsang Shih; 施穎蒼
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜於玻璃基材上之研究
Study of Zinc Oxide Thin Films Deposited on the Glass Substrate by Atomic Layer Deposition
Ching-Yi Chiu; 邱瀞儀
材料科學與工程學研究所
2007
利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜於矽晶圓上之研究
Study of Zinc Oxide Thin Films Deposited on Silicon Substrate by Atomic Layer Deposition
Hung-Chang Liao; 廖宏昌
材料科學與工程學研究所
2012
利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜與氧化鎂緩衝層之研究
Study of ZnO Thin Films and MgO buffer layers Grown by Atomic Layer Deposition
Kai-Yun Yuan; 袁開昀
材料科學與工程學研究所
2015
利用原子層沉積技術成長氮化鈦金屬閘極之金屬氧化物半導體電容元件之研究
Atomic layer deposition of titanium nitride as the metal gate in metal-oxide-semiconductor capacitors
Chi-Lun Huang; 黃紀倫
材料科學與工程學研究所
2010
利用原子層沉積技術成長表面鈍化層於矽晶太陽能電池之應用
Application of Surface Passivation Layer Grown by Atomic Layer Deposition on Silicon Solar Cells
Che-Wei Chang; 張哲瑋
材料科學與工程學研究所
2011
利用原子層沉積技術提升奈米級粗紋化矽晶太陽能電池效率之研究
Efficiency Enhancement of Nanotextured Silicon Solar Cells by Atomic Layer Deposition
Hsin-Jui Chen; 陳欣銳
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術沉積氧化鋁與氧化鋅薄膜於矽奈米點與其光電元件之研究
Characteristics of Si nanodots with Al2O3 and ZnO films deposited by atomic layer deposition and the applications on optoelectronic devices
Fu-Hsiang Su; 蘇富祥
材料科學與工程學研究所
2015
利用原子層沉積技術製備石墨烯成長碳源之研究
Preparation of Carbon Source for the Growth of Graphene by Using Atomic Layer Deposition
Chung-Yen Hsieh; 謝忠諺
材料科學與工程學研究所
2009
利用原子氣相沉積技術成長摻雜鋯與摻雜鎂之氧化鋅研究
Characteristics of Zr-doped and Mg-doped ZnO grown by Atomic Layer Deposition
Yao-Jen Chang; 張耀仁
材料科學與工程學研究所
2012
利用表面增強拉曼散射光譜檢測原子層沉積技術製備之極薄膜
Applications of Surface Enhanced Raman Spectroscopy on Nanoscale Ultrathin Films Prepared by Atomic Layer Deposition
LI-WEI NIEN; 粘立暐
材料科學與工程學研究所