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  1. NTU Theses and Dissertations Repository
  2. 電機資訊學院
  3. 光電工程學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/79729
標題: 二硫化鉬及二硫化鎢傳輸特性及其電晶體之研究
Studies of Materials and Transport Properties of MoS2 and WS2 Based Transistors
作者: Pin-Fang Chen
陳品方
指導教授: 吳育任(Yuh-Renn Wu)
關鍵字: 二維材料,二硫化鉬,二硫化鎢,蒙地卡羅法,二維材料奈米片電晶體,
2D material,MoS2,WS2,Monte Carlo Method,2D nanosheet transistor,
出版年 : 2021
學位: 碩士
摘要: 本研究以蒙地卡羅法討論二硫化鉬以及二硫化鎢的傳輸特性,經模擬後得知二硫 化鉬及二硫化鎢的電子遷移率分別為171 cm2/V-s 及83 cm2/V-s。此外,能帶中,K 能谷以及Q 能谷間的能量差是影響材料傳輸特性的重要因素。但若將二維材料周圍以高介電係數材料包覆,遠程聲子散射將會成為最重要降低材料速度的因子。我們將討論完的材料特性帶入二維奈米片電晶體討論元件特性。材料、閘極長度、電極交疊區域、介電層以及電子摻雜將被討論。我們發現相較於二硫化鎢,二硫化鉬會是較好的通道材料。至於介電層,因三氧化二鋁較二氧化鉿有較低的遠程聲子散射,會是較好的介電層材料。電極交疊區域縮短以及摻雜能給電流帶來正面的效應。至於閘極長度的選擇,則要在縮短閘極的好處以及閘極控制力下降間來選擇。在眾多的參數間進行優化後,我們設計出一電晶體,其閘極長度七奈米,電極交疊區域一奈米,介電層為等效氧化層厚度0.8 奈米之氧化鋁以及電子摻雜為4×1013 cm-2。此電晶體在操作電壓0.65伏以及截止電流為1×10-4 μA/μm 下,開路電流可達495 μA/μm,符合國際半導體技術發展藍圖於2022 年對電流之要求。此外,其亦展現出良好的閘極控制能力。
URI: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/79729
DOI: 10.6342/NTU202102554
全文授權: 同意授權(全球公開)
顯示於系所單位:光電工程學研究所

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