傅氏域光學同調斷層掃瞄技術研究

Abstract

我們展示了在傅氏域光學同調斷層掃瞄的一個省時之鏡像消除 方法，包括了理論說明及實驗結果。這新方法利用基於實像與鏡像之 系統相位差相反的性質，來區別兩者。基於合理的假設，我們可以求 得兩個聯立方程式之解，由此可得到實像訊號。於本論中，我們說明 了這個方法的理論基礎，並且證明使用平均和疊代步驟可以進一步改 善實像品質。再者，我們估算在不同影像處理條件下之鏡像消除比 值，包括不同的疊代次數以及兩條A-模掃瞄間不同系統相位差等條 件變化。同時，我們比較我們的方法與廣泛使用的BM 掃瞄法結果之 不同，在我們的方法中使用兩次疊代之鏡像消除品質可勝過BM 掃瞄 法，而使用我們的方法所需電腦運算時間明顯地較BM 掃瞄法短。 基於傅氏域鎖模雷射之製作，我們還建置了一套高速掃頻光學同 調斷層掃瞄系統，該雷射之中心波長在1290 奈米附近，在空氣中光 學同調斷層掃瞄系統之軸向解析度約為10 微米。傅氏域鎖模雷射系 統內包含作為增益介質以及輸出功率放大器之半導體光學放大器，其 掃頻功能係由在適當的頻率下控制法布立－培若可調式濾波器來達 成。我們使用雙重延遲技術使掃頻速率變為四倍，達二十四萬赫茲， 傅氏域鎖模雷射的輸出功率約為40 毫瓦。掃瞄一張具有500000 A- 模掃瞄之三維圖像所需時間只要2.1 秒。