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http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/49693
標題: | 高同調性光罩缺陷檢測系統應用於極紫外光波段 High coherence mask defect inspection system applied on extreme ultraviolet |
作者: | Jheng-Guang Wu 吳政廣 |
指導教授: | 李佳翰(Jia-Han Li) |
關鍵字: | 極紫外光微影,極紫外光光罩,同調散射顯微鏡, coherenet scattering,extreme ultraviolet mask,extreme ultraviolet light, |
出版年 : | 2016 |
學位: | 碩士 |
摘要: | 極紫外光微影技術是新世代微影技術的主流技術。由於半導體技術的演進,製程所需的線寬尺寸越來越小,然而在半導體製程中,光罩是不可或缺的一環,所以任何光罩上若有任一缺陷將可能造成印刷上的錯誤與成本的增加,因此需要一套完善的設備來檢測光罩的缺陷,進而幫助無缺陷的光罩製成。
在此研究中,我們在新竹的國家同步輻射研究中心架設此系統。使用中心的Beamline19A1作為實驗儀器的光源,並於實驗站中安置一個真空腔,在於腔體內設計並架設一套極紫外光光罩缺陷檢射系統,用以檢測光罩上的缺陷,以此套系統為基礎,供於學術界及業界更便利快速的檢測。 Extreme ultraviolet lithography (EUV) is one main technology of the new generation lithography. Because of the fast development of integrated circuits, the width dimension required in processing is smaller and smaller. EUV lithography is considered as one of the great methods for the new generation. However, in the process of semiconductors, it will cause the printing errors and increase the costs with any defect in the mask. Therefore, an inspection system of mask defect should be build. In this study, we try to build the inspection system in National Synchrotron Radiation Research Center in Hsinchu and use the beamline19A1 in that place for this system light source. We design and build an EUV mask inspection in a vacuum chamber at the end-station for providing detection defects in the mask. |
URI: | http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/49693 |
DOI: | 10.6342/NTU201602437 |
全文授權: | 有償授權 |
顯示於系所單位: | 工程科學及海洋工程學系 |
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