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標題: | 60奈米部分解離絕緣體上矽N型金氧半元件二次效應
探討與閘極穿隧電流影響電容分析 Second Order Effect of 60nm PD SOI NMOS and Gate Tunneling Current Related Capacitance Behavior |
作者: | " Lu,Jun-Yi" 呂俊毅 |
指導教授: | 郭正邦 |
關鍵字: | 機械張力,電容, Mechanical,capacitance, |
出版年 : | 2009 |
學位: | 碩士 |
摘要: | 本論文探討部份解離絕緣體上矽N型金氧半(PD SOI NMOS)元件之淺槽隔離對窄通道元件影響,潛槽隔離可能影響電子平均壽命,使得元件特性改變,我們量測不同通道寬度的元件來做比較。接著是討論太薄的閘極氧化層情況下,其閘極漏電流對元件本質電容的影響,模擬閘-源極電容與閘-洩極電容對於不同汲極電壓的變化,並發現部分解離絕緣體上矽N型金氧半元件底部寄生雙載子電晶體導
通時,會引發電流突增現象並且影響元件本質電容,使其產生一突跳現象,接著分析考慮與不考慮閘極漏電流,其考慮閘極漏電流會使電容突跳更加嚴重。第一章介紹絕緣體上矽(SOI)的由來與發展趨勢,接著敘述元件縮小所遭遇的困難,引用ITRS的資料描述現今SOI元件的尺寸與未來趨勢。第二章提出部分解離絕緣體上矽N型金氧半之淺槽隔離對窄通道元件對元件影響,由實驗數據分析並討論。第三章為部份解離絕緣體上矽N型金氧半閘極漏電流對本質電容的影響,透過元件二維模擬器的幫助,可以找出PD SOI NMOS電流突增效應對應本質電容之關 係,與閘極漏電流造成電容的影響。第四章為總結與未來工作。 This thesis reports the 2nd order effects of the 65nm PD SOI NMOS device. First, the shallow-trench-isolation-related narrow channel effect on kink effect and the breakdown behavior are analyzed, then the gate tunneling current and the floating-body-effect related capacitance behavior of 65nm PD SOI NMOS device are described. Finally, we make a conclusion and future work. |
URI: | http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/43440 |
全文授權: | 有償授權 |
顯示於系所單位: | 電子工程學研究所 |
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