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  1. NTU Theses and Dissertations Repository
  2. 工學院
  3. 高分子科學與工程學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/9225
標題: 含三氮唑之水/甲醇溶性聚苯乙烯磺酸鈉鹽共聚物的合成及在高分子發光二極體的應用
Synthesis of Water/Methanol-Soluble Poly(Sodium 4-Styrenesulfonate) Copolymer Containing Triazole and Application on Polymer Light Emitting Diode
作者: Po-Ju Chen
陳泊如
指導教授: 梁文傑
關鍵字: 三氮唑,電子傳導,水溶性高分子,高分子發光二極體,
1,2,4-triazole,Electron transport,Water-soluble polymer,Polymer light emitting diode,
出版年 : 2011
學位: 碩士
摘要: 本研究中將含有三氮唑 (1,2,4-triazole) 基團之苯乙烯磺酸胺衍生物經自由基聚合法,與苯乙烯磺酸鈉鹽共聚合生成一系列水/醇溶性高分子材料。三氮唑具有良好的電子親和力,因此引入此基團至高分子之側基以提供材料電子傳輸的能力,使其能應用於高分子有機發光二極體 (Polymer light emitting diode, PLED) 元件中作為電子傳導層。透過核磁共振光譜儀和質譜儀鑑定化合物之結構;凝膠滲透層析儀鑑定高分子之分子量與分布;熱重分析儀與熱示差掃描卡計得知材料之熱性質;紫外光─可見光光譜儀鑑定化合物之吸收波長,再配合循環電位儀計算得知化合物之HOMO及LUMO能階。最後將高分子材料製作成PLED元件,並與標準元件進行比較,元件結構ITO / PEDOT:PSS / PVK+PBD(40%)+Ir(PPy)3(8%) / cp50 / Mg / Ag在發光效率上有最好的表現:啟動電壓為8.7 V;電壓於21.0 V時達到最大亮度4849 cd/m2;最大發光效率為15.65 cd/A,對應之亮度為3437 cd/m2。
In this study, a series of water/methanol-soluble copolymers were synthesized by radical copolymerization of sodium 4-styrenesulfonate and the 4-styrenesulfonamide derivative containing aromatic 1,2,4-triazole. Due to good electron affinity of aromatic triazole, this moiety is introduced into the side group of polymer to improve the electron-transporting property for application on Polymer light emitting diode, PLED. These polymers were characterized by NMR, mass spectrometer, gel permeation chromatography (GPC), thermogravimetric analyzer (TGA), differential scanning calorimeter (DSC), UV-Vis spectrophotometer, and cyclic voltametry. PLED devices have been made by water/methanol-soluble copolymers, and the performance was compared with standard device. At the results of device, ITO / PEDOT:PSS / PVK+PBD(40%)+Ir(PPy)3(8%) / cp50 / Mg / Ag has the best performance: Turn-on voltage is 8.7 V. Maximum brightness is 4849 cd/m2 on 21.0 V. Maximum current efficiency is 15.65 cd/A with brightness of 3437 cd/m2.
URI: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/9225
全文授權: 同意授權(全球公開)
顯示於系所單位:高分子科學與工程學研究所

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