以電化學蝕刻技術圖案化顯示畫素上光色轉換膠體量子點之分佈

Abstract

本論文內我們展示一種用於製作彩色顯示像素的新技術。我們將膠體量子點混入電解質溶液，再於電化學蝕刻過程中將量子點填入表面下的多孔隙結構內。我們可以透過控制電流導通的路徑來決定電化學蝕刻反應的區域，利用這個特性我們先製作可以使電流相互導通的像素區域，然後進行電化學蝕刻，填入特定顏色量子點到這些像素的多孔隙結構。我們設計圖案後，利用光學微影和感應耦合式電漿反應離子蝕刻製程在藍光量子井的模板上製作特定電流導通區域後，進行兩階段的電化學蝕刻製程，一次使用混合紅光量子點的電解質溶液，另一次使用混合綠光量子點的電解質溶液，分別製作能發紅光及綠光的像素，而沒有電流流通的區域則不會產生孔隙結構，可以當作發藍光的像素。在最優化的電化學蝕刻條件後，我們展示多像素的彩色陣列成品，它們都具有高顏色對比度。這技術提供製作彩色顯示像素的新方法，只要先在表面製作相互絕緣的特定區域像素陣列圖形，然後進行兩次電化學蝕刻製程，就可以獲得彩色像素的陣列，具有製作簡單及低成本的優點。另外因為量子點填入奈米尺度的多孔隙結構內，可以經由奈米腔效應來提升量子點的發光效率。

A novel technique for fabricating color pixel arrays is demonstrated. Based on the developed method of electrochemical etching (ECE) with mixed colloidal quantum dots (QDs) in the electrolyte (KOH), we can use the electric current flow path to control the distributions of subsurface porous structure and inserted QDs. By electrically connecting the pixels of the same color, QDs of the designated color can be inserted into the subsurface porous structures in all those pixels. Through a two-stage ECE process with red-emitting QD (RQD) and then green-emitting QD (GQD) successively on a blue-emitting quantum well (QW) template, we can fabricate the red- and green-emitting pixels. Without current application and porous structure in the blue-emitting pixels, the QWs provides blue light. Multiple-pixel color arrays are demonstrated to gain a high color contrast. This technique of distributing QDs among pixels is simple and inexpensive. It only requires a patterning procedure and two-stage ECE processes. It also gains the advantage of efficient QD emission in a subsurface nano-porous structure.