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  1. NTU Theses and Dissertations Repository
  2. 電機資訊學院
  3. 光電工程學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/81979
標題: 電晶體雷射設計與製作之研究探討
Investigation of the design and fabrication of transistor lasers
作者: Hsin-Yu Lin
林欣瑜
指導教授: 吳肇欣(Chao-Hsin Wu)
關鍵字: 電晶體雷射,法蘭茲-凱爾迪西效應,異質雙極性接面電晶體,雙異質雙極性接面電晶體,發光電晶體,
Transistor lasers,Franz-Keldysh effect,heterojunction bipolar transistor,double heterojunction bipolar transistor,light emitting transistor,
出版年 : 2021
學位: 碩士
摘要: "本篇論文的主要研究為電晶體雷射(Transistor Laser, TL)的磊晶結構設計、元件製作以及其量測特性結果分析。電晶體雷射是一同時具備光與電輸出的新穎元件,在順向主動區的操作下,基極-集極接面的電場會形成法蘭茲-凱爾迪西效應 (Franz-Keldysh effect),並對光造成吸收。因此在結構設計上,以如何在電晶體操作下達到雷射條件為出發,延續異質雙極性接面電晶體(Heterojunction Bipolar Transistor, HBT) 磊晶結構設計上的特點,分別探討主動區的設計、光學侷限因子的提升、漸變的基極設計、和雙異質雙極性接面對載子的侷限及其相對應的電性考量,並以模擬軟體為輔助完成上述磊晶設計的需求。將成長後的磊晶結構進行發光電晶體元件的製作,並量測其光和電的輸出,確認光強度、電流增益、膝節電壓、崩潰電壓的基本元件特性,探討設計結果在實驗與實際元件上的體現,以及比較其與過去發光電晶體元件的差異。 最後部分為電晶體雷射的製作,與發光電晶體除了幾何結構的不同,還需參與後端的切割與鍍膜流程。並將完成後的元件進行量測,包含室溫以及低溫的量測,分析和探討其雷射的特性、電晶體雷射的光學損失、和低溫下材料自身的特性變化與其相應的電與光特性變化。 "
URI: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/81979
DOI: 10.6342/NTU202103053
全文授權: 同意授權(限校園內公開)
電子全文公開日期: 2026-09-06
顯示於系所單位:光電工程學研究所

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