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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2016 | 高介電係數二氧化鋯/氮化鈦金屬閘極堆疊之研究 Study of ZrO2/TiN High-K/Metal Gate Stacks | Yi-Ping Lin; 林益平 | 材料科學與工程學研究所 |
2010 | 利用原子層沉積技術成長n型與p型氧化鋅薄膜及其光電特性研究 Characteristics of n-type and p-type ZnO Films Grown by Atomic Layer Deposition | Ying-Shen Kuo; 郭盈伸 | 材料科學與工程學研究所 |
2010 | 利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜與奈米結構應用於發光二極體之研究 Applications of ZnO Thin Films and Nanostructures grown by Atomic Layer Deposition on Light-Emitting Diodes | Ying-Tsang Shih; 施穎蒼 | 材料科學與工程學研究所 |
2017 | 使用電漿增強型原子層沉積技術成長高介電係數氧化層電容元件及負電容之研究 High-K Dielectrics and Ferroelectric Negative Capacitance Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition | I-Na Tsai; 蔡依娜 | 材料科學與工程學研究所 |
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- 2 原子層沉積技術,二氧化鋯
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