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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2016 | 高介電係數二氧化鋯/氮化鈦金屬閘極堆疊之研究 Study of ZrO2/TiN High-K/Metal Gate Stacks | Yi-Ping Lin; 林益平 | 材料科學與工程學研究所 |
2016 | 利用電漿增強型原子層沉積技術製作前瞻性高介電材料於金氧半電容元件以及鰭式場效電晶體之研究 High-K Dielectrics Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition and its Applications in MOS capacitors and FinFETs | Meng-Chen Tsai; 蔡孟辰 | 材料科學與工程學研究所 |
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