Skip navigation
DSpace
機構典藏 DSpace 系統致力於保存各式數位資料(如:文字、圖片、PDF)並使其易於取用。
點此認識 DSpace
English
中文
瀏覽論文
校院系所
出版年
作者
標題
關鍵字
搜尋 TDR
授權 Q&A
幫助
我的頁面
接受 E-mail 通知
編輯個人資料
NTU Theses and Dissertations Repository
搜尋
搜尋:
整個系統
電機資訊學院
電子工程學研究所
for
目前的篩選器:
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
開始新的搜尋
新增篩選器:
使用篩選器讓結果更精確。
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
第 1 到 1 筆結果,共 1 筆。
上一個
1
下一個
符合的文件:
出版年
標題
作者
系所
2005
應用硝酸氧化及陽極氧化補償技術製作金氧半元件之奈米尺度高介電係數氧化鉿閘極介電層
Application of Chemical Oxidation in Nitric Acid and Anodic Oxidation Compensation Techniques on Preparing Nano-Scale High-k HfO2 Gate Dielectrics in MOS Devices
Chia-Hua Chang; 張嘉華
電子工程學研究所
探索
系所
1
電子工程學研究所
關鍵字
1
high-k gate dielectrics
1
high-k gate dielectrics,hfo2
1
high-k gate dielectrics,hfo2,mos ...
1
high-k gate dielectrics,hfo2,mos ...
1
高介電係數閘極介電層
1
高介電係數閘極介電層,氧化鉿
1
高介電係數閘極介電層,氧化鉿,金氧半電容元件
1
高介電係數閘極介電層,氧化鉿,金氧半電容元件,陽極氧化補償技術
出版年
1
2005
全文授權
1
有償授權
全文
1
true