瀏覽 的方式: 作者 Yu-Syuan Cai
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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2018 | 利用原子層沉積技術成長氮化物蝕刻終止層與閘極介面層之研究 Atomic Layer Deposition of Nitride for Interlayer on High-k Gate Stack and Etch-stop Layers | Yu-Syuan Cai; 蔡宇軒 | 材料科學與工程學研究所 |
出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2018 | 利用原子層沉積技術成長氮化物蝕刻終止層與閘極介面層之研究 Atomic Layer Deposition of Nitride for Interlayer on High-k Gate Stack and Etch-stop Layers | Yu-Syuan Cai; 蔡宇軒 | 材料科學與工程學研究所 |