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NTU Theses and Dissertations Repository
瀏覽 的方式: 作者 陳敏璋
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2014
以原子層沉積技術成長氮化二氧化鉿閘極介電層之金氧半電容元件之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Nitrided Hafnium Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
Tung-Yi Kao; 高同儀
材料科學與工程學研究所
2018
使用電漿增強型原子層沉積技術探討電漿處理及鐵電負電容之研究
Investigation of Plasma Treatment and Ferroelectric Negative Capacitance using Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
Tsung-Han Shen; 沈宗翰
材料科學與工程學研究所
2018
先進奈米電晶體中鐵負容和通道工程的原子層技術之研究
Atomic layer technologies for ferroelectric negative capacitance and channel engineering in advanced nanoscale transistors
Po-Hsien Cheng; 鄭柏賢
材料科學與工程學研究所
2014
利用原子層沈積技術於藍寶石基板與矽基板上成長氮化鋁薄膜之研究
Study of Aluminum Nitride Thin Films Grown on Sapphire and Silicon Substrates by Atomic Layer Deposition
Tsung-Wei Chou; 周宗暐
材料科學與工程學研究所
2010
利用原子層沉積技術成長n型與p型氧化鋅薄膜及其光電特性研究
Characteristics of n-type and p-type ZnO Films Grown by Atomic Layer Deposition
Ying-Shen Kuo; 郭盈伸
材料科學與工程學研究所
2009
利用原子層沉積技術成長p型氧化鋅之研究
Study of p-type ZnO Deposited by Atomic Layer Deposition
Yun-Hsiu Li; 李昀修
材料科學與工程學研究所
2013
利用原子層沉積技術成長氧化鋁及二氧化鈦薄膜應用在高效率矽晶太陽能電池之研究
Application of Aluminum Oxide and Titanium Oxide Thin Film Grown by Atomic Layer Deposition on High-Efficiency Silicon Solar Cells
Che-Wei Lin; 林哲維
材料科學與工程學研究所
2007
利用原子層沉積技術成長氧化鋅及其光電性質之研究
The Optical Properties of Zinc Oxide Grown by Atomic Layer Deposition
Mong-Kai Wu; 吳孟楷
材料科學與工程學研究所
2010
利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜與奈米結構應用於發光二極體之研究
Applications of ZnO Thin Films and Nanostructures grown by Atomic Layer Deposition on Light-Emitting Diodes
Ying-Tsang Shih; 施穎蒼
材料科學與工程學研究所
2011
利用原子層沉積技術成長氧化鋅鎂薄膜及其發光二極體之研究
Characteristics of MgxZn1-xO Thin Films and MgZnO Based Light-Emitting Diodes Grown by Atomic Layer Deposition
Yu-Hsun Huang; 黃郁勛
材料科學與工程學研究所
2018
利用原子層沉積技術成長氮化物蝕刻終止層與閘極介面層之研究
Atomic Layer Deposition of Nitride for Interlayer on High-k Gate Stack and Etch-stop Layers
Yu-Syuan Cai; 蔡宇軒
材料科學與工程學研究所
2015
利用原子層沉積技術成長金氧半電容元件之二氧化鋯閘極介電層於矽基(100)及(110)晶面之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Zirconium Oxide Gate Dielectrics on Si(100) and Si(110) Substrates Grown by Atomic Layer Deposition
Yi-Jen Tsai; 蔡伊甄
材料科學與工程學研究所
2014
利用原子層沉積技術探討表面電漿子在金屬微結構上之表現
Plasmonic Activity of Metallic Nanostructures Grown by Atomic Layer Deposition
Chung-Ting Ko; 柯忠廷
材料科學與工程學研究所
2010
利用原子氣相沉積技術成長氧化鋅磊晶薄膜與 n型氧化鋅/ p型氮化鎵異質介面發光二極體之研究
Characteristics of ZnO epilayers and n-ZnO/p-GaN hetrojunction light-emitting diodes grown by atomic layer deposition
Hsing-Chao Chen; 陳星兆
材料科學與工程學研究所
2013
利用遠程電漿輔助原子氣相沉積技術成長二氧化鉿之氮化與介面工程
Nitrogen and Interface Engineering of HfO2 Gate Dielectrics Grown by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
Li-Tien Huang; 黃俐恬
材料科學與工程學研究所
2016
利用電漿增強型原子層沉積技術製作前瞻性高介電材料於金氧半電容元件以及鰭式場效電晶體之研究
High-K Dielectrics Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition and its Applications in MOS capacitors and FinFETs
Meng-Chen Tsai; 蔡孟辰
材料科學與工程學研究所
2016
原子層沉積技術於體外循環管路內壁形成氧化鋁抗血栓薄膜之研究
Anticoaugulation Properties of ALD Process Deposited Al2O3 Films on Inner Wall of Extracorporeal Circulation
Li-Chun Wang; 王理駿
材料科學與工程學研究所
2015
應用原子層沉積技術於奈米級粗紋化矽晶太陽能電池與高介電常數金屬閘極堆疊之研究
Application of Atomic Layer Deposition on Nanotextured Silicon Solar Cells and High-K/Metal Gate Stacks
Wei-Cheng Wang; 王唯誠
材料科學與工程學研究所
2011
氧化鋅及二氧化錫光電性質之研究
Study of Optical and Electrical Properties of ZnO and SnO2
Chung-Yu Yang; 楊宗諭
材料科學與工程學研究所
2019
無鉛(Bi0.5Na0.5)TiO3-BaTiO3薄膜與ZrO2-HfO2超薄膜之製備與其鐵電和結晶性質分析
Processing and characterization of ferroelectric and crystalline properties of lead-free (Bi0.5Na0.5)TiO3-BaTiO3 thin films and ZrO2-HfO2 ultrathin films
Tzu-Yao Hsu; 徐梓耀
材料科學與工程學研究所