搜尋
新增篩選器:
使用篩選器讓結果更精確。
第 1 到 3 筆結果,共 3 筆。
- 上一個
- 1
- 下一個
符合的文件:
出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2010 | 以高頻電容及溫度電壓施壓法檢測超薄氧化層特性 Characterization of Ultrathin Oxides by High-Frequency C-V Analysis and Temperature-Voltage Stress Method | Hao-Peng Lin; 林豪鵬 | 電子工程學研究所 |
2008 | 伸張應力對超薄閘極氧化層金氧半電容元件之影響 Effect of Tensile Stress on MOS Capacitors with Ultra-thin Gate Oxide | Hsing-Lin Chen; 陳星霖 | 電子工程學研究所 |
2007 | 以伸張應力陽極氧化技術成長高品質超薄氧化層 High Quality Ultra-thin Gate Oxides Prepared by Tensile-Stress Anodization Technique | Chih-Ching Wang; 王志慶 | 電子工程學研究所 |
探索
關鍵字
- 1 anodization
- 1 anodization,tensile stress
- 1 effect of tensile stress
- 1 effect of tensile stress,mos capa...
- 1 effect of tensile stress,mos capa...
- 1 thin film mos capacitor
- 1 thin film mos capacitor,fn stress
- 1 thin film mos capacitor,fn stress...
- 1 thin film mos capacitor,fn stress...
- 1 thin film mos capacitor,fn stress...
- 下一頁 >