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  1. NTU Theses and Dissertations Repository
  2. 電機資訊學院
  3. 電子工程學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/41754
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DC 欄位值語言
dc.contributor.advisor陳中平(Chung-Ping Chen)
dc.contributor.authorTsung-Che Hsiehen
dc.contributor.author謝宗哲zh_TW
dc.date.accessioned2021-06-15T00:30:04Z-
dc.date.available2014-02-03
dc.date.copyright2009-02-03
dc.date.issued2009
dc.date.submitted2009-01-19
dc.identifier.citation[1]M. Born and E. Wolf. Principles of Optics : Electromagnetic Theory of Propagation, Interference and Diffraction of Light, 7th ed. 2002, Dec. 2002.
[2] Amir Aalam Ghazanfarian Y.C. Pati and R. Fabian Pease. Exploiting Structure in Fast Aerial Image Computation for Integrated Circuit Patterns. IEEE Trans. on Semi-conductor Manufacturing, Feb. 1997. vol. 10, no. 1.
[3] B. J. Lin. Microlithography theory and practice. Lectures in NTU, 2006.
[4] A. K. Wong. Resolution Enhancement Technique in Optical Lithography. SPIE Press, 2001.
[5] L. F. Thompson, C. G. Willson, and M. J. Bowden. Introduction to Microlighography. American Chemical Society, Washington, DC, 2 edition, 1994. pp.22-30.
[6] B. J. Lin. Phase-shifting masks gain an edge. Circuits and Devices, 1993.
dc.identifier.urihttp://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/41754-
dc.description.abstract隨著半導體產業不斷的進步,製程不斷的演進,製程線寬從180奈米一直進步到65 甚至45奈米。 當線寬尺寸逼近光波長時,光線穿過光罩後會產生繞射,這些繞射光疊加的結果會與光罩上的圖形跟我們所期望的結果相去甚遠,曝光後的圖形因而嚴重失真。所以有許多增加解析度的技術陸續被提出。而光學鄰近修正技術 (OPC) 就是其中一種增強解析度的方法,為了補償曝光後圖形失真的現象,我們可以經由修改光罩上的圖形,像是在邊緣多加一些襯線,讓繞射光在疊加後滿足我們實際的要求。但是在做完光學鄰近修正術 (OPC) 後,原本的形狀改變了,儲存這些形狀所需要的資料量也變高許多。
在本篇論文,我們提出一種以傅立葉描述元為基礎的表示法,用來表示做完光學鄰近修正術 (OPC) 後的結果。實驗結果顯示,相較於傳統的方法,我們可以節省約5倍的資料儲存量。
zh_TW
dc.description.abstractThe geometry complexity of Optical Proximity Corrected (OPC) Mask and the aerial image are often overwhelming. To speed up the processing time of mask development, OPC quality assurance, and data storage, compact representation of the OPC mask and aerial image are of great importance.
In this thesis, we proposed a novel compact representation method based on the fourier descriptor (FD) method. FD is a widely used contour representation method for image processing. Our experimental result show that more than 5x reduction ratio of the data volume are observed with minor errors. To the best of authors knowledge, FD is applied
to OPC data representation in the first time.
en
dc.description.provenanceMade available in DSpace on 2021-06-15T00:30:04Z (GMT). No. of bitstreams: 1
ntu-98-R94943159-1.pdf: 4661822 bytes, checksum: 07137d77b5a6a571df2de68b8d9b4bb0 (MD5)
Previous issue date: 2009
en
dc.description.tableofcontents1 Introduction 1
1.1 Lithography and Optical Systems . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 1
2 Background 6
2.1 Lithography Imaging . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.1.1 Principle of Lithography Imaging . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
2.1.2 Photoresist . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
2.1.3 Types of Photolithography . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
2.2 Resolution Enhancement Technique . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
2.2.1 Off-Axis Illumination . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.2.2 Phase Shifting Mask . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.2.3 Optical Proximity Correction(OPC) . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.3 Photoresist Development . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
2.4 Various Shape Representation Methods . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
2.4.1 Run-Length Code . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
2.4.2 Quadtree . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
2.4.3 Chain Code . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16
2.5 Fourier Descriptor(FD) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 17
2.5.1 Properties of Fourier Descriptor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19
2.5.2 Sensitivity of Fourier Descriptor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22
3 Optical Simulation and OPC Algorithm 30
3.1 Optical Simulation Theory . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30
3.1.1 Jinc Function . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 31
3.1.2 Jinc Kernel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 32
3.2 OPC Formulation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33
3.2.1 Sampling and FD conversion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33
3.2.2 Problem Formulation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 35
3.2.3 Sensitivity Calculation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 37
4 Simulation Results 40
4.1 Comparision With Some Shapes Using Different Number of Fourier De-
scriptors . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 40
4.1.1 Rectangular Shape . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 40
4.1.2 Simulation of Various Other Shapes(non OPC) . . . . . . . . . . . 41
4.1.3 Simulation of a post OPC geometry . . . . . . . . . . . . . . . . . . 48
4.2 Adjustment of Fourier descriptors . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 48
4.3 Simulation of a post OPC geometry . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 50
4.4 An Example of FDOPC . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 51
5 Conclusion 58
Bibliography 59
dc.language.isoen
dc.subject圖形表示法zh_TW
dc.subject傅立葉描述元zh_TW
dc.subject傅立葉轉換zh_TW
dc.subject光學鄰近修正術zh_TW
dc.subject光學成像模擬zh_TW
dc.subjectFourier descriptoren
dc.subjectFourier transformen
dc.subjectshape representationen
dc.subjectaerial image simulationen
dc.subjectOptical Proximity Correctionen
dc.title以傅立葉描述元為基礎之光學鄰近修正壓縮表示法zh_TW
dc.titleCompact Representation of Optical Proximity Correction Geometry Based on Fourier Descriptor Methoden
dc.typeThesis
dc.date.schoolyear97-1
dc.description.degree碩士
dc.contributor.oralexamcommittee蔡坤諭(Kuen-Yu Tsai),盧奕璋(Yi-Chang Lu)
dc.subject.keyword傅立葉描述元,傅立葉轉換,光學鄰近修正術,光學成像模擬,圖形表示法,zh_TW
dc.subject.keywordFourier descriptor,Fourier transform,Optical Proximity Correction,aerial image simulation,shape representation,en
dc.relation.page59
dc.rights.note有償授權
dc.date.accepted2009-01-19
dc.contributor.author-college電機資訊學院zh_TW
dc.contributor.author-dept電子工程學研究所zh_TW
顯示於系所單位:電子工程學研究所

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