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http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/38583
標題: | 利用腔體震盪吸收光譜法觀測矽石/液體界面的吸附現象 |
作者: | Chien-Yi Hung 洪健益 |
指導教授: | 林金全 |
關鍵字: | 腔體震盪,矽石,吸附, cavity ring-down,silica,adsorption, |
出版年 : | 2005 |
學位: | 碩士 |
摘要: | 本研究是利用漸逝波腔體震盪吸收光譜法 (Evanescent Wave Cavity Ring-Down Spectroscopy) 來偵測矽石 (silica) 與液體溶劑界面的吸附現象。實驗原理主要是雷射光進入矽石材質的稜鏡,在內部表面如果發生全反射,則會在反射點透入一小段距離,這個微弱的
波就稱為漸逝波 (evanescent wave)。樣品通過稜鏡的反射面若能吸附在表面上,就會吸收漸逝波而造成雷射光在腔體內的震盪時間減少,由加入樣品前後的時間變化量就可以進而瞭解到界面的組成和樣品的吸附情形。實驗中使用的樣品主要為 trans-4-[4-(dibutylamino)-styryl]-1-methylpyridinium iodide (DMP+I-) 和 trans-4-[4-(dibutylamino)styryl-1-3-sulfopropyl)pyridinium (DP),使用的溶劑為乙腈 (CH3CN)。由電導測量可知在乙腈溶劑中,DMPI 會完全解離出 DMP+ 陽離子和 I- 陰離子,而 DP 則維持中性不解離。 矽石/液體溶劑界面的組成主要為矽醇基 (SiOH),在溶液中會解離產生出帶負電的矽氧根 (SiO-) ,帶正電荷的樣品 (DMP+) 會和 SiO- 產生正負相吸的靜電引力吸附在界面上,並且會受到其他陽離子的競爭;中性的樣品 (DP) 則主要是藉由氧原子和矽醇基上的氫 原子產生氫鍵,而吸附在界面上。 本研究順利的利用腔體震盪光譜法的技術,觀察到樣品吸附在界面上的情形,也可以明顯的看到加入其他有機分子造成的影響,並 利用蘭穆爾吸附模型求得樣品吸附的平衡常數和自由能的變化。 |
URI: | http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/38583 |
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顯示於系所單位: | 化學系 |
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