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瀏覽的方式：作者 Li-Jen Hsiao

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出版年	標題	作者	系所
2019	以廣義高斯常數使用於深紫外光學微影之成像與照明系統設計 Extreme Ultraviolet Lithography Projector and Illuminator Design with Generalized Gaussian Constants	*Li-Jen Hsiao; 蕭立人*	光電工程學研究所

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