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| 出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
|---|---|---|---|
| 2009 | 高介電係數氧化鉿閘極介電層金氧半電容元件之不均勻特性分析 Analysis of Nonuniformity Characterization for MOS Structure Device with High-k HfO2 Dielectric Laye | Hui-Ting Lu; 盧卉庭 | 電子工程學研究所 |
| 出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
|---|---|---|---|
| 2009 | 高介電係數氧化鉿閘極介電層金氧半電容元件之不均勻特性分析 Analysis of Nonuniformity Characterization for MOS Structure Device with High-k HfO2 Dielectric Laye | Hui-Ting Lu; 盧卉庭 | 電子工程學研究所 |