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NTU Theses and Dissertations Repository
瀏覽 的方式: 作者 蔡坤諭(Kuen-Yu Tsai)
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2014
一種採用非成像散射偵測技術的極紫外微影光罩缺陷檢測新方法
A New Extreme Ultraviolet Mask Defect Inspection Method with Non-imaging Scattering Detection
Qi Ding; 丁奇
電機工程學研究所
2012
不會造成責任週期飽和且符合暫態響應要求的電壓調整模組之新式最佳控制器設計方法
A New Optimal Controller Design Method for Meeting Transient Response Requirements of Voltage Regulator Modules without Duty Ratio Saturation
Yu-Jhih Zeng; 曾宇鋕
電機工程學研究所
2016
具有電子束位置精度、電子光學系統效能與結合製造可行性之改善的多電子束直寫系統設計
Design of Multiple-Electron-Beam–Direct-Write Systems with Improvements in Beam Placement Accuracy, Electron-Optical System Performances, and Associated Manufacturability
Sheng-Yung Chen; 陳勝勇
電機工程學研究所
2014
利用圖形修復並藉由放寬之製像真確度條件以達到直寫微影之產能改善
Improvement in Direct-Write Lithography Throughput by Exploiting Relaxed Patterning Fidelity Requirements with Pattern Rectification
Hao-Yun Yu; 余浩澐
電機工程學研究所
2008
利用背向散射電子偵測電子束微影系統電子束漂移現象
Beam Drift Phenomenon in Electron Beam Lithography through Backscattered Electron Detection
Yi-Dao Jiang; 江易道
電機工程學研究所
2007
單細胞列印系統之設計與實現
Design and Implementation of a Single-Cell Printing System
Yu-Chen Kung; 龔育諄
電機工程學研究所
2013
多重電子束直寫微影中具球形結構場發射源之電子光學系統設計與最佳化
Design and optimization of an electron-optical system with a ball-tip emission source for multiple-electron-beam–direct-write lithography
Hsuan-Ping Lee; 李宣屏
電機工程學研究所
2006
應用控制理論並同時考慮電路設計規格以增進光學鄰近修正之收斂
Apply Control Theories to Improve Optical Proximity Correction (OPC) Convergence with Design Intent
Yi-Sheng Su; 蘇義盛
電機工程學研究所
2013
應用於全晶片奈米積體電路製造電子束微影臨近效應模型建立與修正方法之設計
Design of Proximity Effect Modeling and Correction Methods for Electron-Beam Lithography with Applications in Full-Chip Nanometer Integrated Circuit Manufacturing
Chun-Hung Liu; 劉俊宏
電機工程學研究所
2008
應用於外差式雷射干涉儀訊號之數位介面設計
A New Design of Digital Interface for Heterodyne Laser Interferometer Signals
Chi-Chih Kuan; 官啟智
電機工程學研究所
2013
應用於奈米積體電路製造之製像效應修正方法
Patterning Process Effect Correction Methodology for Nanoscale Integrated Circuit Manufacturing
Philip Chooi Wan Ng; 黃飛歷
電機工程學研究所
2018
應用於次20奈米非矩形閘極圖形效應FDSOI積體電路之有效電性估測方法
Efficient Electrical Characteristics Estimation Techniques for Sub 20 nm FDSOI Integrated Circuits with Non-Rectangular Gate Patterning Effects
Jia-Syun Cai; 蔡佳勳
電子工程學研究所
2007
應用最佳光阻感光臨界值偵測法與有效率誤差定義之模型光學鄰近修正而設計之模型控制器以改善其修正收斂速度
Design of Model-based Controller for Model-based Optical Proximity Correction with Optimal Resist Threshold Determination and Effective Error Definition for Improving Correction Convergence
Philip Chooi Wan Ng; 黃水源
電機工程學研究所
2007
次波長光學微影效應對超大型積體電路之元件與電路特性影響之分析
Analysis of Impacts of Subwavelength Lithography Effects on Device Characteristics and Circuit Performance for Nanometer VLSI
Meng-Fu You; 游孟福
電機工程學研究所
2012
直接散射術微影模型校正
Direct-Scatterometry-Enabled Lithography Model Calibration
Chih-Yu Chen; 陳志宇
電機工程學研究所
2011
考慮光學微影效應之增進寄生參數準確度抽取方法
A New Method to Improve Accuracy of Parasitics Extraction Considering Sub-wavelength Lithography Effects
Bo-Sen Chang; 張柏森
電機工程學研究所
2008
考慮光學微影效應之超大型積體電路寄生參數抽取方法
A New Lithography-Aware Interconnect Parasitic Extraction Methodology for Nanometer VLSI Circuits
Wei-Jhih Hsieh; 謝偉志
電機工程學研究所
2012
考慮微影特性於曝光控制電路響應最佳化進而改善電子束微影曝寫速度之方法
Exposure control circuit response optimization method for improving throughput of electron beam lithography considering patterning fidelity
Shi-Chuan Huang; 黃實權
電機工程學研究所
2007
靜電透鏡模擬與分析並應用於次世代電子束微影
Simulation and Analysis of Electrostatic Lens and Application to Next Generation Electron Beam Direct-write Lithography
Ken-Hsien Hsieh; 謝艮軒
電機工程學研究所
2014
高製像真確度奈米微影技術下之多閘極電晶體電路佈局最佳化使電路性能增進方法
A new method of optimizing multi-gate cell layouts for circuit performance improvements by continuous fin width sizing with high-patterning-fidelity nanolithography techniques
Yi-Yeh Yang; 楊奕曄
電子工程學研究所