NTU Theses and Dissertations Repository: Browsing DSpace

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Publication Year	Title	Author(s)	Department
2019	1310奈米長波長垂直共振腔面射型雷射製程開發與分析 Fabrication Development and Analysis of 1310 nm Long-Wavelength Vertical Cavity Surface Emitting Lasers	Chun-Kai Chang; 張鈞凱	光電工程學研究所
2017	1310奈米長波長垂直共振腔面射型雷射製程開發與分析 Fabrication Development and Analysis of 1310 nm Long Wavelength Vertical Cavity Surface Emitting Lasers	Yan-Chien Lee; 李言謙	光電工程學研究所
2020	1310奈米高功率分布回饋雷射之設計與製作 Design and Fabrication of High Power 1310 nm Distributed Feedback Laser	Shih-Kun Lin; 林詩堃	光電工程學研究所
2021	1550奈米高功率分布回饋雷射之設計與製作 Design and Fabrication of High-Power 1550 nm Distributed Feedback Laser	Chieh Lo; 羅傑	光電工程學研究所
2015	850nm高速垂直共振腔面射型雷射之變溫特性研究 Temperature-Dependent Characterization of 850 nm High-Speed Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers	Yun-Chen Wu; 吳允琛	光電工程學研究所
2019	T型閘極-高頻氮化鋁鎵/氮化鎵高電子遷移率電晶體之製作與分析 Fabrication and Analysis of High Frequency AlGaN/GaN HEMTs with T-shaped Gate	Yung-Ting Ho; 何咏庭	光電工程學研究所
2013	不同尺寸設計對發光電晶體光頻寬之影響 The effect of optical bandwidth of light-emitting transistors under different size layout design	Peng-Hao Chou; 周鵬豪	光電工程學研究所
2016	二維材料光電晶體研究開發 Development of Phototransistors Based on Two-Dimensional Materials	Chiao-Fang Chang; 張喬鈁	光電工程學研究所
2018	二維材料及其異質結構之成長及應用 2D Materials and Their Hetero-structures	Chong-Rong Wu; 吳崇榮	電子工程學研究所
2021	二維材料異質結構元件光電特性探討 Investigation of Photoelectric Characteristics of Two-Dimensional Material Heterostructure Devices	Yu-Hsuan Lu; 呂育瑄	光電工程學研究所
2020	二維材料電阻式記憶體與1T1R結構之研究 The research of 2D material-based Resistive Random Access Memory and 1T-1R cell	Tzu-Heng Wang; 王子珩	電子工程學研究所
2019	以化學氣相沉積法製備之單晶二硒化鎢與其元件應用 Single-Crystal WSe2 Prepared by Chemical Vapor Deposition for Device Applications	Jun-Yan Li; 李俊諺	電子工程學研究所
2020	使用金屬環對模態控制的影響於850nm垂直共振腔面射型雷射 The effect of mode control of 850 nm VCSEL using metal ring contact	Szu-Yu Min; 閔絲愉	光電工程學研究所
2013	共振腔發光電晶體之研製與分析 Fabrication and Characterization of Resonant-Cavity Light-Emitting Transistors	Wen-Chiung Tu; 涂文瓊	光電工程學研究所
2015	利用兩段整合式發光電晶體探討異質接面光電晶體特性分析與邏輯閘應用 Characterization of Heterojunction Bipolar Phototransistor with Integrated Two-Section Light-Emitting Transistors and Logic Gate Application	Yuan-Fu Hsu; 徐源甫	光電工程學研究所
2016	利用原子層沉積技術成長氧化層並製作免轉印上閘極石墨烯及二硫化鉬電晶體 Graphene and MoS2 Transferring-Free Top-Gated Transistors with Dielectric Layers Fabricated by Using the Atomic Layer Deposition	Shuo Hwai; 懷碩	電子工程學研究所
2015	利用氟離子電漿處理之增強型氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體的製作與分析 Fabrication and Analysis of Enhancement Mode AlGaN/GaN MOSHEMTs Using Fluoride-based Plasma Treatment	Sin-Yi Yin; 尹新逸	光電工程學研究所
2020	垂直共振腔面射型雷射之模態與速度特性研究 The Mode and Speed Characteristics of Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser	Ting-Yu Huang; 黃亭瑜	光電工程學研究所
2016	常關式氮化鎵/氮化鋁鎵金氧半高電子遷移率電晶體之製作與介面缺陷分析 Fabrication of Normally-off AlGaN/GaN MOSHEMTs and Analysis of Interface Traps	Tzung-Han Tsai; 蔡宗翰	電子工程學研究所
2020	常關式氮化鎵大面積高電子遷移率電晶體之製作與分析 Fabrication and Analysis of Large Area Enhancement mode GaN High Electron Mobility Transistors	Yu-Li Ho; 何竽曆	光電工程學研究所

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