瀏覽 的方式: 作者 伍存龍
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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2016 | 利用氫氣電漿清理砷化銦基板再用氧化物磊晶系統成長氧化鉿之介面特性分析 Analysis of Hydrogen plasma clean before deposition of HfO2 on InAs by Oxide MBE system with deflector interface | Thein Naing; 伍存龍 | 電子工程學研究所 |