Skip navigation

DSpace

機構典藏 DSpace 系統致力於保存各式數位資料(如:文字、圖片、PDF)並使其易於取用。

點此認識 DSpace
DSpace logo
English
中文
  • 瀏覽論文
    • 校院系所
    • 出版年
    • 作者
    • 標題
    • 關鍵字
  • 搜尋 TDR
  • 授權 Q&A
    • 我的頁面
    • 接受 E-mail 通知
    • 編輯個人資料
  1. NTU Theses and Dissertations Repository
  2. 電機資訊學院
  3. 光電工程學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/84629
標題: 以晶格分析探討氮化鎵孔洞結構上生長氮化鋁鎵的應變鬆弛行為
Study on the Strain Relaxation Behaviors of Overgrown AlGaN on GaN Porous Structures through Lattice Constant Analyses
作者: Hao-Yu Hsieh
謝皓宇
指導教授: 楊志忠(Chih-Chung Yang)
關鍵字: 應變鬆弛,孔洞結構,晶格分析,
Strain Relaxation,Porous Structures,Lattice Constant Analyses,
出版年 : 2022
學位: 碩士
摘要: 我們利用晶格面距分析技術研究11個生長在具有高矽摻雜氮化鎵層氮化鎵模板的氮化鋁鎵樣品之晶格常數變化,高矽摻雜氮化鎵層則可以經由電化學蝕刻製作奈米多孔結構,具有應力彈性效果,我們探討這些樣品內氮化鋁鎵層之應力釋放行為。我們發現,各樣品氮化鋁鎵層的頂部和底部之晶格常數差異與應力釋放多寡相符合。多孔隙或檯面結構都會使氮化鎵層中的壓縮應力釋放更多,導致氮化鎵晶格常數a變大,因而在氮化鋁鎵層內產生的拉伸應力更強,如此氮化鋁鎵層應力釋放更多,也就有更高的應變鬆弛百分比。儘管不同樣品的氮化鋁鎵層厚度和鋁濃度稍有不同,但這兩者的變化對氮化鋁鎵層應力釋放的影響不大。
The d-spacing crystal lattice analysis technique is used for studying the lattice constant variations of 11 AlGaN/GaN samples with n+-GaN layers. Through an electrochemical etching process, a GaN porous structure can be fabricated in the n+-GaN layer. In this study, we are mainly concerned with the strain relaxation behaviors of the overgrown AlGaN layers in those samples. The variation of the AlGaN lattice constant difference between the top and bottom of the AlGaN layer is consistent with the strain relaxation variation among different samples. With a porous or mesa structure in a sample, the compressive strains in its GaN layers are more relaxed, leading to larger GaN lattice constants, a, and hence a stronger tensile strain in the overgrown AlGaN layer. A stronger tensile strain in an AlGaN layer results in a stronger relaxation behavior and hence a higher strain relaxation percentage. Although the AlGaN layer thickness and Al content vary among different samples, such a variation does not play a crucial role in determining the strain relaxation in the AlGaN layer.
URI: http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/84629
DOI: 10.6342/NTU202203353
全文授權: 同意授權(限校園內公開)
電子全文公開日期: 2022-09-23
顯示於系所單位:光電工程學研究所

文件中的檔案:
檔案 大小格式 
U0001-1309202215290900.pdf
授權僅限NTU校內IP使用(校園外請利用VPN校外連線服務)
3.4 MBAdobe PDF檢視/開啟
顯示文件完整紀錄


系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。

社群連結
聯絡資訊
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號
No.1 Sec.4, Roosevelt Rd., Taipei, Taiwan, R.O.C. 106
Tel: (02)33662353
Email: ntuetds@ntu.edu.tw
意見箱
相關連結
館藏目錄
國內圖書館整合查詢 MetaCat
臺大學術典藏 NTU Scholars
臺大圖書館數位典藏館
本站聲明
© NTU Library All Rights Reserved