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| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 蔡明誠 | |
| dc.contributor.author | Yi-Jing Zeng | en |
| dc.contributor.author | 曾怡菁 | zh_TW |
| dc.date.accessioned | 2021-06-17T00:22:43Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-18 | |
| dc.date.copyright | 2012-07-18 | |
| dc.date.issued | 2012 | |
| dc.date.submitted | 2012-06-06 | |
| dc.identifier.citation | 中文部分：
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| dc.identifier.uri | http://tdr.lib.ntu.edu.tw/jspui/handle/123456789/66126 | - |
| dc.description.abstract | 本文擬以美國、日本之設計專利制度為中心，將本次修法新增之設計專利保護客體詳加介紹，進而點出修正後我國實務可能面臨的問題並詴著提出因應之道。 | zh_TW |
| dc.description.abstract | The article will clearly introduce the subject matter of design patent according to American' and Japan' design patent system, bring up those problem which could occur in our country after modifying the patent law in 2011 and try to find the way to solve. | en |
| dc.description.provenance | Made available in DSpace on 2021-06-17T00:22:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ntu-101-R97a21109-1.pdf: 2739460 bytes, checksum: 4e4db165f1bd1f7117e107bea7c44cad (MD5) Previous issue date: 2012 | en |
| dc.description.tableofcontents | 第一章緒論 .................................................................................. 6
第一節 問題的提出 ................................................................................... 6 第二節 研究目的及範圍界定 ................................................................... 7 第一項 專利制度之源起 ......................................................................... 7 第二項 設計保護 ..................................................................................... 7 第三項 新興之設計保護標的 ................................................................. 8 第三節 研究方法、限制及論文結構 ....................................................... 8 第二章 專利制度之發展及各國設計專利制度之概況............. 10 第一節 專利制度之發展 ......................................................................... 10 第一項 專利制度之立法例 ................................................................... 10 第二項 相關國際條約 ........................................................................... 12 第二節 各國設計專利制度之概況 ......................................................... 18 第一項 台灣 ........................................................................................... 18 第二項 美國 ........................................................................................... 29 第三項 日本 ........................................................................................... 34 第三節 台灣2009年專利法第四章修正草案之相關內容 ................... 37 第一項 新式樣專利更名為設計專利 ................................................... 38 第二項 開放電腦圖像與圖形化使用者介面之保護 ........................... 38 第三項 開放成組設計之保護 ............................................................... 41 第四項 廢止聯合新式樣另創設衍生設計制度 ................................... 43 第五項 開放部分設計之保護 ............................................................... 46 2 第三章 電腦圖像與圖形化使用者介面 ................................... 48 第一節 意義及目的 ................................................................................. 48 第二節 美國圖像設計 ............................................................................. 49 第一項 Schnell案 ................................................................................ 50 第二項 美國圖像設計審查及揭露方式 ............................................... 53 第三節 日本圖像意匠 ............................................................................. 57 第一項 意義及要件 ............................................................................... 58 第二項 日本圖像意匠審查及揭露方式 ............................................... 63 第四節 開放「圖像設計」實務可能面臨之難題 ................................. 66 第一項 現行實務面臨之難題 ............................................................... 66 第二項 修法後實務可能遇到之難題 ................................................... 67 第四章 成組設計 ..................................................................... 68 第一節 意義及目的 ................................................................................. 68 第二節 美國成組設計 ............................................................................. 68 第一項 BAKER案 ................................................................................. 68 第二項 美國成組設計審查之揭露方式 ............................................... 70 第三節 日本組物意匠 ............................................................................. 70 第一項 意義之要件 ............................................................................... 71 第二項 日本組物意匠審查之揭露方式 ............................................... 80 第四節 開放「成組設計」實務可能面臨之難題 ................................. 80 第一項 現行實務面臨之難題 ............................................................... 80 第二項 修法後實務可能遇到之難題 ................................................... 80 3 第五章 衍生設計 ..................................................................... 82 第一節 意義及目的 ................................................................................. 82 第二節 美國同一設計 ............................................................................. 82 第一項 Rubinfield案 .......................................................................... 82 第二項 美國同一設計審查和揭露方式 ............................................... 84 第三節 日本關連意匠 ............................................................................. 85 第一項 意義和要件 ............................................................................... 86 第二項 日本關連意匠審查和揭露方式 ............................................... 87 第四節 開放「衍生設計」實務可能面臨之難題 ................................. 88 第一項 現行實務面臨之難題 ............................................................... 88 第二項 修法後實務可能遇到之難題 ................................................... 88 第六章 部分設計 ..................................................................... 90 第一節 意義及目的 ................................................................................. 90 第二節 美國部分設計 ............................................................................. 90 第一項 Zahn案 ...................................................................................... 90 第二項 美國部分設計審查之揭露方式 ............................................. 101 第三節 日本部分意匠 ........................................................................... 108 第一項 意義和要件 ............................................................................. 109 第二項 大阪地裁帄成17年2月15日判決、帄16（.）6262.─類似與否判斷範圍 ................................................................................................. 110 第三項 東京高裁帄成15年 6月30日判決 帄15（.）1119.─外觀性要件之探討 ................................................................................................. 113 4 第四項 日本部分意匠審查和揭露方式 ............................................. 116 第四節 開放「部分設計」實務可能面臨之難題 ............................... 116 第一項 現行實務面對之難題 ............................................................. 117 第二項 修法後實務可能遇到之難題 ................................................. 118 第七章 展望及修法建議─代結論 ......................................... 120 第一節 台灣現行新式樣專利申請簡介 ............................................... 120 第一項 台灣現行新式樣專利申請書 ................................................. 120 第二項 台灣現行新式樣專利圖說揭露方式 ..................................... 121 第二節 修法建議 ................................................................................... 125 第一項 「新式樣」用語不宜更動 ..................................................... 125 第二項 改為形式審查 ......................................................................... 126 第三項 專利法施行細則及設計專利審查基準之增修 ..................... 126 第四項 設計專利保護範圍解釋之釐清 ............................................. 127 第五項 損害賠償之計算方式宜明文規定 ......................................... 127 第六項 物品性概念之省思 ................................................................. 127 第三節 小結 ........................................................................................... 128 附件一 .................................................................................. 129 附件二 .................................................................................. 130 參考文獻 .................................................................................. 131 | |
| dc.language.iso | zh-TW | |
| dc.subject | 意匠 | zh_TW |
| dc.subject | 設計 | zh_TW |
| dc.subject | 專利 | zh_TW |
| dc.subject | 新式樣 | zh_TW |
| dc.subject | design | en |
| dc.subject | patent | en |
| dc.title | 新興設計專利保護標的研究-以部分設計為探討中心 | zh_TW |
| dc.title | A Study on New Subject Matter of Design Patent Protection-- Focusing on Partial Design | en |
| dc.type | Thesis | |
| dc.date.schoolyear | 100-2 | |
| dc.description.degree | 碩士 | |
| dc.contributor.oralexamcommittee | 陳昭華,黃銘傑 | |
| dc.subject.keyword | 設計,專利,新式樣,意匠, | zh_TW |
| dc.subject.keyword | design,patent, | en |
| dc.relation.page | 136 | |
| dc.rights.note | 有償授權 | |
| dc.date.accepted | 2012-06-07 | |
| dc.contributor.author-college | 法律學院 | zh_TW |
| dc.contributor.author-dept | 法律學研究所 | zh_TW |
| 顯示於系所單位： | 法律學系 | |
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|---|---|---|---|
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