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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2015 | 新型CVD鑽石碟開發及修整CMP拋光墊特性之研究 Development of a New CVD Diamond Disk for CMP Pad Conditioning | Ta-Wei Lin; 林大維 | 機械工程學研究所 |
2007 | CMP鑽石修整器修整聚胺酯拋光墊表面特性之研究 CMP Diamond Conditioner Dressing Characteristics of Polyurethane Pad | Ming-Yi Tsai; 蔡明義 | 機械工程學研究所 |