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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2018 | 先進奈米電晶體中鐵負容和通道工程的原子層技術之研究 Atomic layer technologies for ferroelectric negative capacitance and channel engineering in advanced nanoscale transistors | Po-Hsien Cheng; 鄭柏賢 | 材料科學與工程學研究所 |
2009 | 利用原子層沉積技術成長p型氧化鋅之研究 Study of p-type ZnO Deposited by Atomic Layer Deposition | Yun-Hsiu Li; 李昀修 | 材料科學與工程學研究所 |
2018 | 使用電漿增強型原子層沉積技術探討電漿處理及鐵電負電容之研究 Investigation of Plasma Treatment and Ferroelectric Negative Capacitance using Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition | Tsung-Han Shen; 沈宗翰 | 材料科學與工程學研究所 |
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- 2 原子層沉積技術
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