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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2016 | 原子層沉積技術於體外循環管路內壁形成氧化鋁抗血栓薄膜之研究 Anticoaugulation Properties of ALD Process Deposited Al2O3 Films on Inner Wall of Extracorporeal Circulation | Li-Chun Wang; 王理駿 | 材料科學與工程學研究所 |
2010 | 利用原子氣相沉積技術成長氧化鋅磊晶薄膜與 n型氧化鋅/ p型氮化鎵異質介面發光二極體之研究 Characteristics of ZnO epilayers and n-ZnO/p-GaN hetrojunction light-emitting diodes grown by atomic layer deposition | Hsing-Chao Chen; 陳星兆 | 材料科學與工程學研究所 |
2012 | 以原子層沉積技術所製作之氧化鋁薄膜性質及其對純銅保護性之研究 A study on the properties of ALD-deposited Al2O3 films and their protective capability for pure copper | Ming-Lun Chang; 張明倫 | 材料科學與工程學研究所 |