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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2015 | 使用原子層沉積技術成長氮化鋁與氮化鎵薄膜之研究 Study of the AlN and GaN Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition | Yung-Chuan Chuang; 莊詠荃 | 材料科學與工程學研究所 |
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學位
- 1 碩士
指導教授
關鍵字
- 1 atomic layer deposition (ald)
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- 1 原子層沉積技術,退火
- 1 原子層沉積技術,退火,氮化鋁
- 1 原子層沉積技術,退火,氮化鋁,iii-族氮化物緩衝層
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出版年
- 1 2015
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- 1 true