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材料科學與工程學系
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2008
利用原子層沉積技術沉積氧化鋁與氧化鋅薄膜於矽奈米點與其光電元件之研究
Characteristics of Si nanodots with Al2O3 and ZnO films deposited by atomic layer deposition and the applications on optoelectronic devices
Fu-Hsiang Su; 蘇富祥
材料科學與工程學研究所
探索
系所
1
材料科學與工程學研究所
學位
1
碩士
指導教授
1
陳敏璋(miin-jang chen)
作者
1
蘇富祥
關鍵字
1
si nanodots
1
si nanodots,al2o3
1
si nanodots,al2o3,zno
1
si nanodots,al2o3,zno,atomic laye...
1
si nanodots,al2o3,zno,atomic laye...
1
si nanodots,al2o3,zno,atomic laye...
1
原子層沉積技術,氧化鋁
1
原子層沉積技術,氧化鋁,氧化鋅
1
原子層沉積技術,氧化鋁,氧化鋅,矽奈米點
出版年
1
2008
全文授權
1
有償授權
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1
true