Skip navigation
DSpace
機構典藏 DSpace 系統致力於保存各式數位資料(如:文字、圖片、PDF)並使其易於取用。
點此認識 DSpace
English
中文
瀏覽論文
校院系所
出版年
作者
標題
關鍵字
搜尋 TDR
授權 Q&A
幫助
我的頁面
接受 E-mail 通知
編輯個人資料
NTU Theses and Dissertations Repository
搜尋
搜尋:
整個系統
工學院
材料科學與工程學系
for
目前的篩選器:
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
開始新的搜尋
新增篩選器:
使用篩選器讓結果更精確。
標題
系所
學位
作者
指導教授
系所
關鍵字
出版年
授權
Has File(s)
包含
等於
ID
不等於
不包含
非 ID
第 1 到 10 筆結果,共 15 筆。
上一個
1
2
下一個
符合的文件:
出版年
標題
作者
系所
2015
利用原子層沉積技術成長氮化鈦金屬閘極之金屬氧化物半導體電容元件之研究
Atomic layer deposition of titanium nitride as the metal gate in metal-oxide-semiconductor capacitors
Chi-Lun Huang; 黃紀倫
材料科學與工程學研究所
2006
利用原子層沉積技術成長氧化鋁-應用於矽發光二極體之研究
Study of Silicon Light-Emitting Diodes with Al2O3 thin films grown by Atomic Layer Deposition
Ying-Tsang Shih; 施穎蒼
材料科學與工程學研究所
2011
利用原子層沉積技術提升奈米級粗紋化矽晶太陽能電池效率之研究
Efficiency Enhancement of Nanotextured Silicon Solar Cells by Atomic Layer Deposition
Hsin-Jui Chen; 陳欣銳
材料科學與工程學研究所
2012
利用原子層沉積技術成長二氧化鈦及氧化鋁複合氧化層-應用於金氧半電容元件之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Titanium Aluminum Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
Keng-Han Lin; 林耕漢
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術沉積氧化鋁與氧化鋅薄膜於矽奈米點與其光電元件之研究
Characteristics of Si nanodots with Al2O3 and ZnO films deposited by atomic layer deposition and the applications on optoelectronic devices
Fu-Hsiang Su; 蘇富祥
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術成長光學薄膜於溝槽式矽基板之研究
Study of Optical Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition on Silicon Trench
Chi-Yuan Sun; 孫啟元
材料科學與工程學研究所
2015
使用原子層沉積技術成長氮化鋁與氮化鎵薄膜之研究
Study of the AlN and GaN Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Yung-Chuan Chuang; 莊詠荃
材料科學與工程學研究所
2010
矽奈米晶體金氧半元件光電性質之研究
Electrical and Optical Characteristics of Silicon and Nanocrystals in Metal-Oxide-Semiconductor Structures
Ching-Huang Chen; 陳慶煌
材料科學與工程學研究所
2009
原子層沉積技術於奈米級粗紋化黑色矽晶圓太陽能電池之應用
Application of Atomic Layer Deposition on Nano-textured Black Silicon Solar Cells
Yeh Tsai; 蔡曄
材料科學與工程學研究所
2008
利用原子層沉積技術成長氧化鋅薄膜於玻璃基材上之研究
Study of Zinc Oxide Thin Films Deposited on the Glass Substrate by Atomic Layer Deposition
Ching-Yi Chiu; 邱瀞儀
材料科學與工程學研究所
探索
系所
15
材料科學與工程學研究所
學位
15
碩士
作者
1
che-wei chang
1
chi-lun huang
1
chi-yuan sun
1
ching-huang chen
1
ching-yi chiu
1
fu-hsiang su
1
hsin-jui chen
1
hung-chang liao
1
i-na tsai
1
keng-han lin
.
下一頁 >
關鍵字
8
atomic layer deposition
4
atomic layer deposition (ald)
3
原子層沉積技術,氧化鋅
2
atomic layer deposition (ald),zir...
2
atomic layer deposition,solar cell
2
atomic layer deposition,solar cel...
2
atomic layer deposition,zno
2
原子層沉積技術,二氧化鋯
2
原子層沉積技術,太陽能電池
2
原子層沉積技術,太陽能電池,表面鈍化層
.
下一頁 >
出版年
9
2010 - 2017
6
2006 - 2009
全文授權
11
有償授權
3
未授權
1
同意授權(全球公開)
全文
15
true