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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2012 | 以原子層沉積技術所製作之氧化鋁薄膜性質及其對純銅保護性之研究 A study on the properties of ALD-deposited Al2O3 films and their protective capability for pure copper | Ming-Lun Chang; 張明倫 | 材料科學與工程學研究所 |