搜尋
新增篩選器:
使用篩選器讓結果更精確。
第 1 到 3 筆結果,共 3 筆。
- 上一個
- 1
- 下一個
符合的文件:
出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2014 | 以原子層沉積技術成長氮化二氧化鉿閘極介電層之金氧半電容元件之研究 Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Nitrided Hafnium Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition | Tung-Yi Kao; 高同儀 | 材料科學與工程學研究所 |
2014 | 利用原子層沈積技術於藍寶石基板與矽基板上成長氮化鋁薄膜之研究 Study of Aluminum Nitride Thin Films Grown on Sapphire and Silicon Substrates by Atomic Layer Deposition | Tsung-Wei Chou; 周宗暐 | 材料科學與工程學研究所 |
2014 | 使用陽極氧化鋁基板探討表面電漿子增強型拉曼及螢光光譜 Plasmonic Enhancement of Raman Scattering and Photoluminescence on Anodic Aluminum Oxide Template | Yen-Hui Lee; 李彥輝 | 材料科學與工程學研究所 |
探索
系所
學位
- 3 碩士
指導教授
關鍵字
- 2 atomic layer deposition(ald)
- 1 atomic layer deposition
- 1 atomic layer deposition(ald),alum...
- 1 atomic layer deposition(ald),alum...
- 1 atomic layer deposition(ald),alum...
- 1 atomic layer deposition(ald),remo...
- 1 atomic layer deposition(ald),remo...
- 1 atomic layer deposition(ald),remo...
- 1 atomic layer deposition(ald),remo...
- 1 atomic layer deposition(ald),remo...
- 下一頁 >
全文授權
- 3 有償授權
全文
- 3 true