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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2018 | 使用電漿增強型原子層沉積技術探討電漿處理及鐵電負電容之研究 Investigation of Plasma Treatment and Ferroelectric Negative Capacitance using Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition | Tsung-Han Shen; 沈宗翰 | 材料科學與工程學研究所 |
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系所
學位
- 1 碩士
指導教授
- 1 陳敏璋
關鍵字
- 1 atomic layer deposition
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- 1 原子層沉積技術,金氧半電容元件
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- 1 原子層沉積技術,金氧半電容元件,電漿處理,順電材料,鐵電材料,負電容
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出版年
- 1 2018
全文授權
- 1 有償授權
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- 1 true