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材料科學與工程學系
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第 1 到 10 筆結果,共 19 筆。
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2015
利用原子層沉積技術成長氮化鈦金屬閘極之金屬氧化物半導體電容元件之研究
Atomic layer deposition of titanium nitride as the metal gate in metal-oxide-semiconductor capacitors
Chi-Lun Huang; 黃紀倫
材料科學與工程學研究所
2014
利用原子層沈積技術於藍寶石基板與矽基板上成長氮化鋁薄膜之研究
Study of Aluminum Nitride Thin Films Grown on Sapphire and Silicon Substrates by Atomic Layer Deposition
Tsung-Wei Chou; 周宗暐
材料科學與工程學研究所
2016
高介電係數二氧化鋯/氮化鈦金屬閘極堆疊之研究
Study of ZrO2/TiN High-K/Metal Gate Stacks
Yi-Ping Lin; 林益平
材料科學與工程學研究所
2014
以原子層沉積技術成長氮化二氧化鉿閘極介電層之金氧半電容元件之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Nitrided Hafnium Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
Tung-Yi Kao; 高同儀
材料科學與工程學研究所
2018
利用原子層沉積技術成長氮化物蝕刻終止層與閘極介面層之研究
Atomic Layer Deposition of Nitride for Interlayer on High-k Gate Stack and Etch-stop Layers
Yu-Syuan Cai; 蔡宇軒
材料科學與工程學研究所
2011
利用原子層沉積技術成長氧化鋅鎂薄膜及其發光二極體之研究
Characteristics of MgxZn1-xO Thin Films and MgZnO Based Light-Emitting Diodes Grown by Atomic Layer Deposition
Yu-Hsun Huang; 黃郁勛
材料科學與工程學研究所
2010
利用原子層沉積技術成長表面鈍化層於矽晶太陽能電池之應用
Application of Surface Passivation Layer Grown by Atomic Layer Deposition on Silicon Solar Cells
Che-Wei Chang; 張哲瑋
材料科學與工程學研究所
2013
利用原子層沉積技術成長氧化鋁及二氧化鈦薄膜應用在高效率矽晶太陽能電池之研究
Application of Aluminum Oxide and Titanium Oxide Thin Film Grown by Atomic Layer Deposition on High-Efficiency Silicon Solar Cells
Che-Wei Lin; 林哲維
材料科學與工程學研究所
2015
使用原子層沉積技術成長氮化鋁與氮化鎵薄膜之研究
Study of the AlN and GaN Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Yung-Chuan Chuang; 莊詠荃
材料科學與工程學研究所
2012
利用原子層沉積技術成長二氧化鈦及氧化鋁複合氧化層-應用於金氧半電容元件之研究
Study of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Titanium Aluminum Oxide Gate Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
Keng-Han Lin; 林耕漢
材料科學與工程學研究所
探索
系所
19
材料科學與工程學研究所
學位
17
碩士
2
博士
指導教授
10
陳敏璋
9
陳敏璋(miin-jang chen)
作者
1
che-wei chang
1
che-wei lin
1
chi-lun huang
1
ching-huang chen
1
hsin-jui chen
1
i-na tsai
1
keng-han lin
1
meng-chen tsai
1
tsung-han shen
1
tsung-wei chou
.
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關鍵字
9
atomic layer deposition (ald)
5
atomic layer deposition
4
atomic layer deposition(ald)
2
atomic layer deposition (ald),zir...
2
atomic layer deposition(ald),remo...
2
原子層沉積技術,二氧化鋯
2
原子層沉積技術,遠程電漿輔助原子層沉積技術
1
ald
1
ald,tin
1
ald,tin,resistivity
.
下一頁 >
出版年
2
2018
1
2017
2
2016
3
2015
3
2014
1
2013
1
2012
2
2011
4
2010
全文授權
12
有償授權
6
未授權
1
同意授權(全球公開)
全文
19
true