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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2014 | 高輝度與高同調性之光罩缺陷繞射檢測系統應用於13.5 nm極紫外光微影製程之研究 Study of high brilliance and high coherence mask defect diffractive detection system applied on 13.5 nm EUV lithography process | Chun-Fu Yang; 楊淳復 | 工程科學及海洋工程學研究所 |
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- 1 碩士
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- 1 extreme ultraviolet lithography
- 1 extreme ultraviolet lithography,c...
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- 1 極紫外光微影
- 1 極紫外光微影,同調繞射影像術
- 1 極紫外光微影,同調繞射影像術,同調性散射顯微鏡
- 1 極紫外光微影,同調繞射影像術,同調性散射顯微鏡,極紫外光光罩
- 1 極紫外光微影,同調繞射影像術,同調性散射顯微鏡,極紫外光光罩,次世代微影
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出版年
- 1 2014
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- 1 未授權
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