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化學工程學系
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2010
化學機械研磨阻障層鉭與其電化學特性的研究
The Study on Chemical Mechanical Polishing of Barrier Metal Tantalum and Its Electrochemical Characteristics
Yi-Hsiu Chen; 陳怡秀
化學工程學研究所
探索
系所
1
化學工程學研究所
學位
1
博士
指導教授
1
顏溪成
作者
1
陳怡秀
關鍵字
1
cmp
1
cmp,barrier
1
cmp,barrier,slurry,tantalum
1
cmp,barrier,slurry,tantalum,elect...
1
化學機械研磨
1
化學機械研磨,阻障層
1
化學機械研磨,阻障層,鉭
1
化學機械研磨,阻障層,鉭,研磨液
1
化學機械研磨,阻障層,鉭,研磨液,電化學量測
出版年
1
2010
全文授權
1
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1
true