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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2017 | 基於可繞性與光罩製造之下世代微影可製造性最佳化 Manufacturability Considering Routability and Mask-Fabrication Optimization for Next Generation Lithography | Zhi-Wen Lin; 林植文 | 電子工程學研究所 |
2014 | 考慮自對準雙圖案微影技術疊對誤差之細部繞線 Overlay-Aware Detailed Routing for Self-Aligned Double Patterning Lithography Using the Cut Process | Iou-Jen Liu; 劉又仁 | 電子工程學研究所 |
2016 | 可製造性導向繞線考慮先進製程和切割光罩最佳化 Manufacturing-driven Routing and Cut Mask Optimization for Advanced Technology | Yu-Hsuan Su; 蘇育萱 | 電子工程學研究所 |
2013 | 針對次22奈米技術之微影最佳化 Lithography Optimization for Sub-22 Nanometer Technologies | Shao-Yun Fang; 方劭云 | 電子工程學研究所 |
2019 | 考量極紫外光閃焰及自對準雙圖案微影技術之繞線 Flare-Aware Routing for EUVL with Self-Aligned Double Patterning | Bo-Ling Chen; 陳柏霖 | 電子工程學研究所 |
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系所
- 5 電子工程學研究所
指導教授
關鍵字
- 5 physical design
- 5 實體設計,製造可行性設計
- 2 physical design,design for manufa...
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- 2 實體設計,製造可行性設計,多圖案微影技術
- 2 實體設計,製造可行性設計,多圖案微影技術,電子束微影技術
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