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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2013 | 調整曝光時間與表面微結構改善光罩上之電子束微影 Adjust the exposure time and apply the surface microstructure to improve the electron beam lithography on the mask | Chao-Chung Ai; 艾兆中 | 電子工程學研究所 |
2012 | 利用硬體結構改善電子束微影中鄰近效應及電荷累積效應 Applying Hardware Structures to Suppress Proximity Effect and Charging Effect in E-beam Lithography | Shao-Wen Chang; 張韶文 | 電子工程學研究所 |