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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2014 | 考慮自對準雙圖案微影技術疊對誤差之細部繞線 Overlay-Aware Detailed Routing for Self-Aligned Double Patterning Lithography Using the Cut Process | Iou-Jen Liu; 劉又仁 | 電子工程學研究所 |
2017 | 基於奈米級圖樣針對二維自我引導組裝之切斷點重新分佈 Nanoscale Pattern-Based Cut Redistribution for Two-Dimensional Directed Self-Assembly | Zhan-Ling Wang; 王占翎 | 電子工程學研究所 |
2019 | 考量極紫外光閃焰及自對準雙圖案微影技術之繞線 Flare-Aware Routing for EUVL with Self-Aligned Double Patterning | Bo-Ling Chen; 陳柏霖 | 電子工程學研究所 |
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系所
- 3 電子工程學研究所
指導教授
關鍵字
- 3 實體設計
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- 3 有償授權
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