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電子工程學研究所
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2011
利用低能量密度準分子雷射熱退火改善金奈米晶粒非 揮發性記憶體
Apply Low Energy Density Excimer Laser Annealing to Improve Gold Nanoparticle Nonvolatile Memory
Yu-Ying Wu; 吳俞潁
電子工程學研究所
2008
鍺量子點在金氧半結構中的分佈對光學特性之影響
Study of the Optical Spectra Affected by the Distribution of the Ge Dots within the MOS Structure
Nai-Yun Hsu; 許乃允
電子工程學研究所
2010
藉由矽基板上孔洞陣列內部形貌的調控實現鍺量子點的有序成長
Growth of well-aligned Ge quantum dots by adjusting the inner morphology of nano-hole array on Si substrate
Chien-Hung Lee; 李健鴻
電子工程學研究所
2010
在金氧半元件中金奈米粒子間氧化層陷阱的研究
Study of Oxide Traps among Gold Nano-Particles in Metal-Oxide-Semiconductor Device
Hong-Cheng Huang; 黃虹彰
電子工程學研究所
2005
選擇性摻雜和能障寬度對不同週期的超晶格紅外線偵測器的影響
The effect of the selective doping and barrier width on Superlattice Infrared photodetector with the different period number
Kuei-Chian Huang; 黃逵謙
電子工程學研究所
2008
利用電導-電壓及矽的電激發光量測研究N型鍺量子點金氧半結構之介面缺陷特性
Interface traps of the N-type MOS structure with Ge nanocrystals characterized by G-V measurement and Si electron-luminescence
Ko-Chun Lin; 林可淳
電子工程學研究所
2015
電子束微影之快速顯影技術探討
The Research of Rapid Development Technology in Electron Beam Lithography
Wei-Cheng Rao; 饒偉正
電子工程學研究所
2007
橫向場發射結構之製作
Fabrication of lateral field emission structure
Yen-Huan Lin; 林延寰
電子工程學研究所
2013
調整曝光時間與表面微結構改善光罩上之電子束微影
Adjust the exposure time and apply the surface microstructure to improve the electron beam lithography on the mask
Chao-Chung Ai; 艾兆中
電子工程學研究所
2007
鍺量子點發光二極體 有無矽緩衝層之電激發光特性探討
Electroluminescence properties of Ge dots LEDs with or without Si buffer layer
Ying-Chih Lai; 賴盈至
電子工程學研究所
探索
系所
44
電子工程學研究所
指導教授
3
chieh-hsiung kuan
作者
1
chao-chung ai
1
cheng-huan chung
1
chien-chung chen
1
chien-hsiung hsu
1
chien-hung lee
1
chien-wei chiu
1
ching-hung lai
1
chun-wei hsieh
1
chun-yu yao
1
fu-chuan chen
.
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關鍵字
3
e-beam lithography
3
電子束微影
2
chemical potential model
2
excimer laser
2
excimer laser,ge ncs
2
excimer laser,ge ncs,raman
2
grating
2
metallic grating
2
sige device
2
光柵
.
下一頁 >
出版年
3
2020 - 2023
18
2010 - 2019
23
2005 - 2009
全文授權
29
有償授權
13
未授權
2
同意授權(全球公開)