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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2008 | 伸張應力對超薄閘極氧化層金氧半電容元件之影響 Effect of Tensile Stress on MOS Capacitors with Ultra-thin Gate Oxide | Hsing-Lin Chen; 陳星霖 | 電子工程學研究所 |
2007 | 以伸張應力陽極氧化技術成長高品質超薄氧化層 High Quality Ultra-thin Gate Oxides Prepared by Tensile-Stress Anodization Technique | Chih-Ching Wang; 王志慶 | 電子工程學研究所 |