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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2014 | 碳化矽金氧半電容之閘極氧化層與碳積聚研究 Investigation of Gate Dielectrics and Carbon Interstitials on 4H-SiC MOS Capacitors | Chia-Ming Hsu; 許家銘 | 電子工程學研究所 |
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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2014 | 碳化矽金氧半電容之閘極氧化層與碳積聚研究 Investigation of Gate Dielectrics and Carbon Interstitials on 4H-SiC MOS Capacitors | Chia-Ming Hsu; 許家銘 | 電子工程學研究所 |