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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2015 | 電子束微影之快速顯影技術探討 The Research of Rapid Development Technology in Electron Beam Lithography | Wei-Cheng Rao; 饒偉正 | 電子工程學研究所 |
2017 | 短時間低溫顯影之電子束微影與鄰近效應修正演算法 Short-Time and Low-Temperature Development for Electron-Beam Lithography and the Algorithms of Proximity Effect Correction | Chun Nien; 粘群 | 電子工程學研究所 |
2011 | 以電子束微影與準分子雷射熱退火技術製作規則排列之結晶奈米鍺點 Fabrication of Ordered Germanium Nanocrystals Using E-beam Lithography and Excimer Laser Annealing | I-Kuan Wu; 吳奕寬 | 電子工程學研究所 |
2016 | 電子束微影之低溫短顯影研究 Investigation of electron beam lithography with the low-temperature short-interval development technology | Cheng-Huan Chung; 鍾政桓 | 電子工程學研究所 |
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系所
- 4 電子工程學研究所
關鍵字
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