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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2013 | 調整曝光時間與表面微結構改善光罩上之電子束微影 Adjust the exposure time and apply the surface microstructure to improve the electron beam lithography on the mask | Chao-Chung Ai; 艾兆中 | 電子工程學研究所 |