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電子工程學研究所
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第 11 到 20 筆結果,共 57 筆。
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符合的文件:
出版年
標題
作者
系所
2010
藉由矽基板上孔洞陣列內部形貌的調控實現鍺量子點的有序成長
Growth of well-aligned Ge quantum dots by adjusting the inner morphology of nano-hole array on Si substrate
Chien-Hung Lee; 李健鴻
電子工程學研究所
2010
雷射熱退火對不同厚度之鍺奈米薄膜形成鍺量子點之影響
Agglomerate Germanium quantum dot from different evaporated Germanium thin film thickness by laser annealing
Jhao-Hong Lin; 林昭宏
電子工程學研究所
2015
電子束微影之快速顯影技術探討
The Research of Rapid Development Technology in Electron Beam Lithography
Wei-Cheng Rao; 饒偉正
電子工程學研究所
2012
以方形孔洞陣列之介面設計增進金屬/半導體接觸 導電特性
Improving Metal-Semiconductor Contact Conductance with Patterned Interface of Square-Hole Array
Jong-Lih Li; 黎中立
電子工程學研究所
2017
短時間低溫顯影之電子束微影與鄰近效應修正演算法
Short-Time and Low-Temperature Development for Electron-Beam Lithography and the Algorithms of Proximity Effect Correction
Chun Nien; 粘群
電子工程學研究所
2012
分析奈米結構缺陷與穿透式電子顯微鏡檢驗和電性之關聯性
A Correlated Analysis of Defect in Nanostructures with TEM Inspection and Electrical Characterization
Yann-Wen Lan; 藍彥文
電子工程學研究所
2017
穿透式單一波長超穎透鏡
Single Wavelength Transparent Metalens
I-Chen Lee; 李沂臻
電子工程學研究所
2013
調整曝光時間與表面微結構改善光罩上之電子束微影
Adjust the exposure time and apply the surface microstructure to improve the electron beam lithography on the mask
Chao-Chung Ai; 艾兆中
電子工程學研究所
2006
含矽/矽鍺量子井結構發光二極體在不同摻雜濃度下之電激發光特性
Electroluminescence characteristics of LED with Si/SiGe multiple quantum well under different doping conditions
Hung-Ming Chen; 陳宏銘
電子工程學研究所
2006
次波長金屬光柵結構於量子井紅外線偵測器之設計與製作
Subwavelength Metallic Grating Structure on Quantum Well Infrared Photodetector
Kuang-Jou Hsieh; 謝寬洲
電子工程學研究所
探索
系所
57
電子工程學研究所
學位
44
碩士
13
博士
指導教授
4
chieh-hsiung kuan
作者
2
chien-wei chiu
2
hung-ming chen
2
po-hsun chen
2
邱建維
2
陳宏銘
2
陳柏勳
1
chao-chung ai
1
cheng-huan chung
1
chien-chung chen
1
chien-hsiung hsu
.
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關鍵字
4
電子束微影
4
電子束微影系統
3
e-beam
3
e-beam lithography
3
紅外線偵測器
3
鍺量子點
2
chemical potential model
2
excimer laser
2
excimer laser,ge ncs
2
excimer laser,ge ncs,raman
.
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出版年
3
2020 - 2023
28
2010 - 2019
26
2005 - 2009
全文授權
39
有償授權
16
未授權
2
同意授權(全球公開)