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光電工程學研究所
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2011
室溫濺鍍與雷射退火之銅鋁氧化物薄膜特性分析
Properties of room-temperature sputtered and laser annealed copper-aluminum oxide thin films
Chang-Yi Tsai; 蔡昌益
光電工程學研究所
探索
系所
1
光電工程學研究所
學位
1
碩士
作者
1
蔡昌益
關鍵字
1
cualo2
1
cualo2,laser
1
cualo2,laser,sputtered
1
銅鋁氧化物
1
銅鋁氧化物,雷射
1
銅鋁氧化物,雷射,濺鍍
出版年
1
2011
全文授權
1
有償授權
全文
1
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