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電機資訊學院
光電工程學研究所
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2013
利用脈衝雷射沈積系統製作氮化鎵磊晶層在氧化鋅緩衝層上及光電特性量測
Fabricating Gallium Nitride Epilayer on Zinc Oxide Buffer Layer via Pulsed Laser Deposition System and Opto-electric Properties Analysis
Chun-Wei Ku; 古竣偉
光電工程學研究所
探索
系所
1
光電工程學研究所
學位
1
碩士
作者
1
古竣偉
關鍵字
1
hydrothermal method
1
hydrothermal method,zinc oxide (zno)
1
hydrothermal method,zinc oxide (z...
1
hydrothermal method,zinc oxide (z...
1
hydrothermal method,zinc oxide (z...
1
水熱法
1
水熱法,氧化鋅薄膜
1
水熱法,氧化鋅薄膜,脈衝雷射沈積系統
1
水熱法,氧化鋅薄膜,脈衝雷射沈積系統,氮化鎵
1
水熱法,氧化鋅薄膜,脈衝雷射沈積系統,氮化鎵,氮氣操作氣壓
.
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出版年
1
2013
全文授權
1
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全文
1
true