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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2019 | 以廣義高斯常數使用於深紫外光學微影之成像與照明系統設計 Extreme Ultraviolet Lithography Projector and Illuminator Design with Generalized Gaussian Constants | Li-Jen Hsiao; 蕭立人 | 光電工程學研究所 |
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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2019 | 以廣義高斯常數使用於深紫外光學微影之成像與照明系統設計 Extreme Ultraviolet Lithography Projector and Illuminator Design with Generalized Gaussian Constants | Li-Jen Hsiao; 蕭立人 | 光電工程學研究所 |